காலியம் அசிட்டைலசிட்டோனேட்டு

அணைவுச் சேர்மம்

காலியம் அசிட்டைலசிட்டோனேட்டு (Gallium acetylacetonate) என்பது Ga(C5H7O2)3 என்ற மூலக்கூற்று வாய்பாட்டால் விவரிக்கப்படும் ஒரு கரிம வேதியியல் சேர்மமாகும். இந்த அணைவுச் சேர்மத்தை சுருக்கமாக Ga(acac)3 என்ற வாய்பாட்டாலும் அடையாளப்படுத்தலாம். மூன்று அசிட்டைலசிட்டோனேட்டு ஈந்தணைவிகளைக் கொண்ட இந்த காலியம் அணைவுச் சேர்மம் ஆராய்ச்சியில் பயன்படுத்தப்படுகிறது. மூலக்கூறு D3 சமச்சீர்நிலையைக் கொண்டுள்ளது. மற்ற எண்முக திரிசு(அசிட்டைலசிட்டோனேட்டு)களுடன் ஒத்த வடிவமைப்பைக் கொண்டுள்ளது.[1]

காலியம் அசிட்டைலசிட்டோனேட்டு
பெயர்கள்
ஐயூபிஏசி பெயர்
(Z)-4-bis[(Z)-1-methyl-3-oxobut-1-enoxy]gallanyloxypent-3-en-2-one
வேறு பெயர்கள்
காலியம் அசிட்டைலசிட்டோனேட்டு
இனங்காட்டிகள்
14405-43-7
பப்கெம் 16717626
பண்புகள்
GaC15H21O6
வாய்ப்பாட்டு எடை 367.05 கி/மோல்
தோற்றம் வெண் திண்மம்
அடர்த்தி 1.42 கி/செ.மீ3
மாறுதலாக ஏதும் சொல்லவில்லை என்றால் கொடுக்கப்பட்ட தரவுகள் யாவும்
பொருள்கள் அவைகளின் இயல்பான வெப்ப அழுத்த நிலையில் (25°C, 100kPa) இருக்கும்.

பயன்கள்

தொகு

காலியம் ஆக்சைடு மெல்லிய படலங்களை அணுவடுக்குப் படிகப்படலவியல் மூலம் தண்ணீர் அல்லது ஓசோனை முன்னோடிச் சேர்மமாக காலியம் அசிட்டைலசிட்டோனேட்டுடன் சேர்ப்பதன் மூலம் உருவாக்க முடியும்.[2] காலியம் அசிட்டைலசிட்டோனேட்டைப் பயன்படுத்தி உயர் தூய்மையான காலியம் நைட்ரைடு நுண் கம்பிகள் மற்றும் நுண் ஊசிகளை குறைந்த வெப்பநிலை வளர்ச்சிக்கும் பயன்படுத்தப்படலாம்.[3][4]

மேற்கோள்கள்

தொகு
  1. Dymock, K.; Palenik, G. J. (1974). "Tris(acetylacetonato)gallium(III)". Acta Crystallographica Section B: Structural Crystallography and Crystal Chemistry 30 (5): 1364–1366. doi:10.1107/S0567740874004833. Bibcode: 1974AcCrB..30.1364D. 
  2. Nieminen, Minna; Niinistö, Lauri; Rauhala, Eero (1996). "Growth of gallium oxide thin films from gallium acetylacetonate by atomic layer epitaxy". J. Mater. Chem. 6: 27–31. doi:10.1039/JM9960600027. 
  3. Chang, Ko-Wei; Wu, Jih-Jen (2002). "Low-Temperature Catalytic Synthesis of Gallium Nitride Nanowires". The Journal of Physical Chemistry B 106 (32): 7796–7799. doi:10.1021/jp026152t. 
  4. Chang, K.-W.; Wu, J.-J. (2003). "Temperature-controlled catalytic growth of one-dimensional gallium nitride nanostructures using a gallium organometallic precursor". Applied Physics A: Materials Science & Processing 77 (6): 769–774. doi:10.1007/s00339-003-2229-y. Bibcode: 2003ApPhA..77..769C.