ஆஃபினியம்(IV) நைட்ரேட்டு
வேதிச் சேர்மம்
ஆஃபினியம்(IV) நைட்ரேட்டு (Hafnium(IV) nitrate) என்பது Hf(NO3)4.[2][3][4] என்ற மூலக்கூற்று வாய்ப்பாட்டால் விவரிக்கப்படும் ஒரு கனிம வேதியியல் சேர்மமாகும். ஆஃபினிமும் நைட்ரிக் அமிலமும் சேர்ந்து இந்த உப்பு உருவாகிறது.
| |
| பெயர்கள் | |
|---|---|
| வேறு பெயர்கள்
ஆஃபினியம் டெட்ராநைட்ரேட்டு
| |
| இனங்காட்டிகள் | |
| 15509-05-4 | |
| ChemSpider | 146363 |
| EC number | 239-536-7 |
InChI
| |
| யேமல் -3D படிமங்கள் | Image |
| பப்கெம் | 167292 |
SMILES
| |
| பண்புகள் | |
| Hf(NO3)4 | |
| வாய்ப்பாட்டு எடை | 426.53 கி/மோல் |
| தோற்றம் | வெண் படிகங்கள் |
| மிதமாகக் கரையும்[1] | |
| தீங்குகள் | |
| GHS pictograms |  
|
| GHS signal word | அபாயம் |
| H272, H315, H319, H335 | |
| P210, P220, P221, P305, P338, P405, P501 | |
மாறுதலாக ஏதும் சொல்லவில்லை என்றால் கொடுக்கப்பட்ட தரவுகள் யாவும் பொருள்கள் அவைகளின் இயல்பான வெப்ப அழுத்த நிலையில் (25°C, 100kPa) இருக்கும். | |
| Infobox references | |
தயாரிப்பு தொகு
ஆஃபினியம் டெட்ராகுளோரைடும் டைநைட்ரசன் பெண்டாக்சைடும் சேர்ந்து வினைபுரிவதால் ஆஃபினியம்(IV) நைட்ரேட்டு உருவாகிறது.[5]
பண்புகள் தொகு
ஆஃபினியம்(IV) நைட்ரேட்டு சிறிதளவு ஆவியாகும். 0.1 மி.மீட்டர் பாதரச அழுத்தத்தில் 110 பாகை செல்சியசு வெப்பநிலையில் இது பதங்கமாகும்.[6] ≥160°செல்சியசு வெப்பநிலையில் ஆஃபினியம்(IV) நைட்ரேட்டு முதலில் HfO(NO3)2 ஆகவும் பின்னர் HfO2.[6] ஆகவும் சிதைவடைகிறது.
பயன்கள் தொகு
ஆஃபினியம் டை ஆக்சைடு கொண்ட பொருட்கள் தயாரிக்க ஆஃபினியம்(IV) நைட்ரேட்டு பயன்படுத்தப்படுகிறது.[6]
மேற்கோள்கள் தொகு
- ↑ "Hafnium Nitrate (CAS: 15509-05-4) | Stanford Advanced Materials" (in ஆங்கிலம்). samaterials.com. பார்க்கப்பட்ட நாள் 29 October 2021.
- ↑ "Hafnium(IV) nitrate". Sigma Aldrich. பார்க்கப்பட்ட நாள் 29 October 2021.
- ↑ "Hafnium Nitrate". American Elements. பார்க்கப்பட்ட நாள் 29 October 2021.
- ↑ (in en) The Metallurgy of Hafnium. Naval Reactors, Division of Reactor Development, U.S. Atomic Energy Commission. 1960. பக். 31. https://www.google.ru/books/edition/The_Metallurgy_of_Hafnium/dqKgCIbq7hEC?hl=en&gbpv=1&dq=hafnium+nitrate&pg=PA31&printsec=frontcover. பார்த்த நாள்: 29 October 2021.
- ↑ Zhuang, Weiwei; Conley, John F.; Ono, Yoshi; Evans, David R.; Solanki, R. (January 2002). "Hafnium Nitrate Precursor Synthesis and HfO2 Thin Film Deposition". Integrated Ferroelectrics 48 (1): 3–12. doi:10.1080/10584580215449.
- ↑ 6.0 6.1 6.2 Conley, J. F.; Ono, Y.; Zhuang, W.; Tweet, D. J.; Gao, W.; Mohammed, S. K.; Solanki, R. (2002). "Atomic Layer Deposition of Hafnium Oxide Using Anhydrous Hafnium Nitrate" (in en). Electrochemical and Solid-State Letters 5 (5): C57. doi:10.1149/1.1462875. பன்னாட்டுத் தர தொடர் எண்:1099-0062. https://iopscience.iop.org/article/10.1149/1.1462875. பார்த்த நாள்: 29 October 2021.
| HNO3 | He | ||||||||||||||||
| LiNO3 | Be(NO3)2 | B(NO 3)− 4 |
RONO2 | NO− 3 NH4NO3 |
HOONO2 | FNO3 | Ne | ||||||||||
| NaNO3 | Mg(NO3)2 | Al(NO3)3 | Si | P | S | ClONO2 | Ar | ||||||||||
| KNO3 | Ca(NO3)2 | Sc(NO3)3 | Ti(NO3)4 | VO(NO3)3 | Cr(NO3)3 | Mn(NO3)2 | Fe(NO3)2 Fe(NO3)3 |
Co(NO3)2 Co(NO3)3 |
Ni(NO3)2 | CuNO3 Cu(NO3)2 |
Zn(NO3)2 | Ga(NO3)3 | Ge | As | Se | BrNO3 | Kr |
| RbNO3 | Sr(NO3)2 | Y(NO3)3 | Zr(NO3)4 | Nb | Mo | Tc | Ru(NO3)3 | Rh(NO3)3 | Pd(NO3)2 Pd(NO3)4 |
AgNO3 Ag(NO3)2 |
Cd(NO3)2 | In(NO3)3 | Sn(NO3)4 | Sb(NO3)3 | Te | INO3 | Xe(NO3)2 |
| CsNO3 | Ba(NO3)2 | Hf(NO3)4 | Ta | W | Re | Os | Ir | Pt(NO3)2 Pt(NO3)4 |
Au(NO3)3 | Hg2(NO3)2 Hg(NO3)2 |
TlNO3 Tl(NO3)3 |
Pb(NO3)2 | Bi(NO3)3 BiO(NO3) |
Po(NO3)4 | At | Rn | |
| FrNO3 | Ra(NO3)2 | Rf | Db | Sg | Bh | Hs | Mt | Ds | Rg | Cn | Nh | Fl | Mc | Lv | Ts | Og | |
| ↓ | |||||||||||||||||
| La(NO3)3 | Ce(NO3)3 Ce(NO3)4 |
Pr(NO3)3 | Nd(NO3)3 | Pm(NO3)3 | Sm(NO3)3 | Eu(NO3)3 | Gd(NO3)3 | Tb(NO3)3 | Dy(NO3)3 | Ho(NO3)3 | Er(NO3)3 | Tm(NO3)3 | Yb(NO3)3 | Lu(NO3)3 | |||
| Ac(NO3)3 | Th(NO3)4 | PaO2(NO3)3 | UO2(NO3)2 | Np(NO3)4 | Pu(NO3)4 | Am(NO3)3 | Cm(NO3)3 | Bk(NO3)3 | Cf | Es | Fm | Md | No | Lr | |||