ஆஃபினியம்(IV) நைட்ரேட்டு

வேதிச் சேர்மம்

ஆஃபினியம்(IV) நைட்ரேட்டு (Hafnium(IV) nitrate) என்பது Hf(NO3)4.[2][3][4] என்ற மூலக்கூற்று வாய்ப்பாட்டால் விவரிக்கப்படும் ஒரு கனிம வேதியியல் சேர்மமாகும். ஆஃபினிமும் நைட்ரிக் அமிலமும் சேர்ந்து இந்த உப்பு உருவாகிறது.

ஆஃபினியம்(IV) நைட்ரேட்டு
பெயர்கள்
வேறு பெயர்கள்
ஆஃபினியம் டெட்ராநைட்ரேட்டு
இனங்காட்டிகள்
15509-05-4
ChemSpider 146363
EC number 239-536-7
InChI
  • InChI=1S/Hf.4NO3/c;4*2-1(3)4/q+4;4*-1
    Key: TZNXTUDMYCRCAP-UHFFFAOYSA-N
யேமல் -3D படிமங்கள் Image
பப்கெம் 167292
  • [N+](=O)([O-])[O-].[N+](=O)([O-])[O-].[N+](=O)([O-])[O-].[N+](=O)([O-])[O-].[Hf+4]
பண்புகள்
Hf(NO3)4
வாய்ப்பாட்டு எடை 426.53 கி/மோல்
தோற்றம் வெண் படிகங்கள்
மிதமாகக் கரையும்[1]
தீங்குகள்
GHS pictograms GHS03: OxidizingThe exclamation-mark pictogram in the Globally Harmonized System of Classification and Labelling of Chemicals (GHS)
GHS signal word அபாயம்
H272, H315, H319, H335
P210, P220, P221, P305, P338, P405, P501
மாறுதலாக ஏதும் சொல்லவில்லை என்றால் கொடுக்கப்பட்ட தரவுகள் யாவும்
பொருள்கள் அவைகளின் இயல்பான வெப்ப அழுத்த நிலையில் (25°C, 100kPa) இருக்கும்.

தயாரிப்பு

தொகு

ஆஃபினியம் டெட்ராகுளோரைடும் டைநைட்ரசன் பெண்டாக்சைடும் சேர்ந்து வினைபுரிவதால் ஆஃபினியம்(IV) நைட்ரேட்டு உருவாகிறது.[5]

பண்புகள்

தொகு

ஆஃபினியம்(IV) நைட்ரேட்டு சிறிதளவு ஆவியாகும். 0.1 மி.மீட்டர் பாதரச அழுத்தத்தில் 110 பாகை செல்சியசு வெப்பநிலையில் இது பதங்கமாகும்.[6] ≥160°செல்சியசு வெப்பநிலையில் ஆஃபினியம்(IV) நைட்ரேட்டு முதலில் HfO(NO3)2 ஆகவும் பின்னர் HfO2.[6] ஆகவும் சிதைவடைகிறது.

பயன்கள்

தொகு

ஆஃபினியம் டை ஆக்சைடு கொண்ட பொருட்கள் தயாரிக்க ஆஃபினியம்(IV) நைட்ரேட்டு பயன்படுத்தப்படுகிறது.[6]

மேற்கோள்கள்

தொகு
  1. "Hafnium Nitrate (CAS: 15509-05-4) | Stanford Advanced Materials" (in ஆங்கிலம்). samaterials.com. பார்க்கப்பட்ட நாள் 29 October 2021.
  2. "Hafnium(IV) nitrate". Sigma Aldrich. பார்க்கப்பட்ட நாள் 29 October 2021.
  3. "Hafnium Nitrate". American Elements. பார்க்கப்பட்ட நாள் 29 October 2021.
  4. The Metallurgy of Hafnium (in ஆங்கிலம்). Naval Reactors, Division of Reactor Development, U.S. Atomic Energy Commission. 1960. p. 31. பார்க்கப்பட்ட நாள் 29 October 2021.
  5. Zhuang, Weiwei; Conley, John F.; Ono, Yoshi; Evans, David R.; Solanki, R. (January 2002). "Hafnium Nitrate Precursor Synthesis and HfO2 Thin Film Deposition". Integrated Ferroelectrics 48 (1): 3–12. doi:10.1080/10584580215449. 
  6. 6.0 6.1 6.2 Conley, J. F.; Ono, Y.; Zhuang, W.; Tweet, D. J.; Gao, W.; Mohammed, S. K.; Solanki, R. (2002). "Atomic Layer Deposition of Hafnium Oxide Using Anhydrous Hafnium Nitrate" (in en). Electrochemical and Solid-State Letters 5 (5): C57. doi:10.1149/1.1462875. பன்னாட்டுத் தர தொடர் எண்:1099-0062. https://iopscience.iop.org/article/10.1149/1.1462875. பார்த்த நாள்: 29 October 2021. 
"https://ta.wikipedia.org/w/index.php?title=ஆஃபினியம்(IV)_நைட்ரேட்டு&oldid=3384639" இலிருந்து மீள்விக்கப்பட்டது